二手 OXFORD Plasmalab 100 #293824078 待售

OXFORD Plasmalab 100是一種蝕刻和蝕刻提升（ELO）設備,能夠產生高質量、高精度的電容耦合等離子體（CCP）結果。該系統具有高分辨率的特點，具有優越的方面、輪廓精度和清晰度。Plasmalab 100經過優化，可用於氧化物蝕刻、氧化物升降光致抗蝕劑和氧化物反向蝕刻工藝。OXFORD Plasmalab 100具有極低流量（ELF）等離子體技術,它利用獨特的小型氣流單元,通過一致的過程時間和均勻性提供更清潔、更可靠的蝕刻。該機可通過電子方式調諧到各種操作參數，響應速度快、靈活。Plasmalab 100配備12英寸真空室，配有50kHz電源，提供可靠、高效的蝕刻工藝。OXFORD Plasmalab 100還提供自動頻率調諧（AFT）功能,可根據材料去除量動態自動調整蝕刻室的頻率設置。這允許用戶實現更深的蝕刻、更平滑的墻壁和更好的尺寸。該工具還具有精確的XYZ階段識別和直觀的圖形用戶界面（GUI）。此GUI旨在提供一種簡單快捷的方法來控制腔室參數和復制結果,即使在多層蝕刻作業的中間也是如此。該資產還配備了全面、全面的過程控制和診斷功能，包括先進的模擬能力、不維護的故障檢測和腔室狀態監控，以確保最佳的過程性能。此外,Plasmalab 100還提供光束散焦傳感器、自動聚焦調諧、可編程光束強度以及先進的逐層配方構建功能。總體而言，OXFORD Plasmalab 100是一款高效、功能強大的蝕刻器，旨在為用戶提供始終如一的高質量結果，具有無與倫比的精確度和統一性。該模型的高級特性使其成為原型和生產蝕刻應用的絕佳選擇。