二手 OXFORD Plasmalab 100 #293830473 待售

ID: 293830473
Reactive Ion Etcher (RIE).
OXFORD Plasmalab 100是一種針對高級樣品制備和沈積應用而設計的蝕刻/粉碎機設備。它是一種多陰極蝕刻器和asher組合,配備低電子電壓。它在模式設計和工藝參數選擇方面提供了充分的靈活性,並且能夠與標準基板一起操作。Plasmalab 100具有三個獨立的直徑為20厘米的蝕刻室,每個蝕刻室配置有兩個移動的磁控管陰極,允許在每個腔室中進行雙過程和三過程。高速掃描磁控管,加上靜態操作選項,產生良好的蝕刻均勻性和控制性。以不同的速率引入該工藝氣體,使其始終處於蝕刻/灰分工藝的最佳濃度。該系統包括許多可配置的流程參數和功能。陰極功率可以設置在0到350 W之間,能量可以1 W增量變化。有一個安全互鎖和控制單元,確保過程的完整性。樣品支架對所有類型的基板都有普遍的支持。OXFORD Plasmalab 100還提供了廣泛的灰化技術,包括低溫灰化、介電蝕刻、傳統的氧氣或氧化劑為主的侵略性灰化。此外,該機還可以進行側壁鈍化和氮化。該工具的工具鏈中還包括一個低能離子轟擊(LEIB)工具,用於清除過程中可能形成的任何粒子和碎片。可以使用質譜儀或光學幹涉儀對ETCH/ASH工藝進行現場監測。資產還有一個集成的遠程診斷工具,可以用來快速調整模型參數。Plasmalab 100是一種非常強大的設備,適合廣泛的應用,從樣品制備和蝕刻到沈積和加工。它的靈活性和高級功能使其成為最苛刻的應用程序的理想解決方案。
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