二手 OXFORD Plasmalab 100 #9088671 待售

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圖為 已使用的 OXFORD Plasmalab 100 待售
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已售出
蝕刻機/ 光阻清洗機
製造商
OXFORD
模型
Plasmalab 100
ID: 9088671
PECVD / ICP Loadlock cluster system - up to 8" PECVD & ICP Computer - HP/ KAYAK operating Windows 98 The Oxford software is PC200 version 2.57.96 Controllers (PLC) 2 each of MCGE432022 Gases PECVD 200 sccm BCl3 100 sccm Cl2 200 sccm Ar 100 sccm NH3 200 sccm CF4 100 sccm O2 Gases ICP 2 SLPM 2% SiH4 100 sccm N2O 2 Slpm N2O 1000 sccm N2 The pumps with the system are: Leybold D40BCS Ruvac WSU250 Leybold D25BCS ICP unit has a Laser Reflectometer, SC Technology #220 PECVD has intermittent failure: mechanical pump shut off unexpectedly RIE is missing mechanical backing pump to the main process turbo pump 1996 vintage.
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OXFORD Plasmalab 100是一種蝕刻器/asher，設計用於提供晶圓材料的快速、精確的蝕刻/灰化。Plasmalab 100針對高均勻性性能進行了優化,為高級基材的沈積、蝕刻和剝離提供了一系列功能。OXFORD Plasmalab 100配備了堅固的等離子體源，確保了對工藝條件的精確控制。這包括氣體質量流動、壓力和溫度調節以及反應室襯裏。為了確保最高的均勻性和最佳的處理性能，確保過程參數的精確調整。而且，反應室中使用的磁場確保等離子體的能量分布均勻。該設備還可以方便地配置用於各種蝕刻和灰化應用，如深層蝕刻、過度蝕刻和選擇性蝕刻。在工藝質量控制方面，Plasmalab 100配備了光發射光譜（OES），對蝕刻/灰化工藝提供實時反饋。這有助於確保流程的一致性和準確性。此外，通過快速準確的過程控制參數來保持過程的可重復性。最後，設備人性化，配有全彩色觸摸屏顯示屏。OXFORD Plasmalab 100能夠處理直徑達200毫米、厚度達1毫米的晶片基板。它支持不同的溫度範圍，高達1000 °C，以及Ar、H2、N2、O2等不同的工藝氣體。此外,Plasmalab 100能夠處理多個蝕刻/灰化配方,並可以提供配方切換功能,以及數據采集和工藝參數歸檔。綜上所述，OXFORD Plasmalab 100是一種適合於晶圓加工應用的蝕刻器/asher。由於其強大的等離子體源、OES和準確的過程控制參數，它提供了精確和可重復性。此外,它還支持各種蝕刻/灰化配方、加工氣體和溫度範圍。
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