二手 OXFORD Plasmalab 100 #9188881 待售

OXFORD Plasmalab 100
ID: 9188881
晶圓大小: 6"
ICP Etcher, 6" Currently crated.
OXFORD Plasmalab 100是一款功能強大的蝕刻器/asher。它是一種基於腔室的設備,結合高性能等離子體工藝用於納米加工。該系統的特點是具有低真空環境和受控氣流的大石英室,允許精確蝕刻或灰燼工作。該腔室還配備了大型基板支撐以及專用的原位光學模塊、2D映射軟件和不同壓力狀態的分段腔室。Plasmalab 100單元具有磁性‐氣體供應,使用RF‐driven放電,使用戶可以控制室內的活性物種,並在基質上沈積層。該機非常適合不同材料的蝕刻和灰分加工,包括復雜的結構。由於可以精確調整和穩定單個等離子體種類的密度、溫度和壓力,因此可以精確控制和重復開發的過程。OXFORD Plasmalab 100工具還能夠與多種基板一起工作,如不銹鋼、矽、玻璃和聚合物基板,允許用戶為納米級結構的開發開發蝕刻和灰燼應用。Plasmalab 100資產具有先進的計算機控制氣體處理模型,允許使用不同的氣體,從而實現最佳蝕刻和灰分性能。設備還配備了先進的診斷工具,如質譜儀、朗繆爾探針和環形電極陣列,使用戶能夠控制等離子體過程的動力學。OXFORD Plasmalab 100也可用於氮化工藝、陽極氧化和表面改性。此外,該系統還與各種附件組件兼容,如口罩、靜電卡盤、陰影口罩和顯微鏡。Plasmalab 100經過設計,可以在低壓、安全和可重復的環境中提供高性能的蝕刻和灰分工藝,讓用戶安全地開發復雜的納米結構。其先進的特點使等離子體工藝能夠快速、精確地優化和再現。該單元適合研究和生產應用,常用於半導體加工和MEMS應用。
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