二手 OXFORD Plasmalab 100 #9220686 待售

OXFORD Plasmalab 100是為精密等離子體蝕刻和灰化應用而設計的先進蝕刻和灰化設備。該系統采用高功率射頻（RF）送電和精密過程控制相結合，提供精確蝕刻和灰化結果。該機組配備了一個12英寸可分配的質量聚焦24-GHz磁控管電源，可提供高達2 kW的射頻功率。這臺機器能夠沈積多層材料而不會過度蝕刻，也不會增加明顯的顆粒汙染水平。Plasmalab 100具有多種工藝後灰化選項,可用於多種用途,包括材料制備、光刻和去除汙染。該工具基於電源傳遞和過程控制提供了廣泛的蝕刻和灰化選項,如鋁蝕刻和灰化、矽蝕刻和灰化、玻璃蝕刻和灰化以及其他類型的蝕刻和灰化。該資產非常適合用於晶片測試樣品的制備、光刻和新晶片的制備等應用。該模型能夠各向同性和各向異性的蝕刻，沒有明顯的粒子穿透。它還配備了高度可配置的批處理設備，其中包括各種用戶定義的可編程參數。OXFORD Plasmalab 100易於使用和維護，為用戶提供了開發復雜蝕刻和灰化工藝的一系列工具。該系統提供低頻ECR源、自動流量饋送子單元以及單線圈和雙線圈加熱選項。機器還具有一個大的，6 「x 12」的工作區，允許各種樣本量。總體而言,Plasmalab 100是一種功能強大且可靠的蝕刻/灰化工具。它設計用於精密蝕刻和灰化結果，非常適合廣泛的應用，從材料制備和汙染去除到晶圓測試和光刻。