二手 OXFORD Plasmalab 100 #9364613 待售

OXFORD Plasmalab 100是一種基於感應耦合等離子體（ICP）驅動源的蝕刻器/asher。它由一個單一的大源室組成，可以向其中註入各種氣體，以便對各種材料進行蝕刻/灰化。該腔室設計用於大型晶片基板和所需的等離子體參數，用於高精度蝕刻/灰化。它配備了一個低壓感應耦合等離子體源，為蝕刻/灰化提供離子和中性物質。自偏置系統允許調節源功率、電極分離、射頻頻率等等離子參數。Plasmalab 100的腔室能夠對直徑不超過8英寸的樣品進行蝕刻/灰化處理,同時實現超高的蝕刻長寬比,並最大程度地減少樣品失真。它配備了多種硬件和軟件功能，能夠控制工藝壓力、氣流、晶圓表面正反濺射等參數，以及處理不同高度樣品的能力。此外，它還包括一個內置的壓力監控器和一個低壓泵，可以將室內的壓力降低到非常低的水平。OXFORD Plasmalab 100還具有高分辨率成像系統，可用於實時監測蝕刻/灰分過程，從而最大限度地減少對後處理成像的需求。它的自動抽水系統能夠重復測量蝕刻/灰分過程，並允許精確調整等離子體參數以提高可重復性。Plasmalab 100還具有保護性安全聯鎖裝置，以最大程度地降低源室超壓和爆炸性的風險。OXFORD Plasmalab 100還包含一臺能夠產生500至5000赫茲頻率的大功率射頻發電機。此功能允許更改工藝參數和優化蝕刻/灰化配置文件,以更好地匹配客戶所需的結果。此外，一系列的綜合安全和安全報警器監測室內的壓力，以確保最佳的工作條件。Plasmalab 100還包括幾個內置監控系統,這些系統通過在需要維護時提醒用戶來幫助降低維護成本。總體而言,OXFORD Plasmalab 100是一款先進的蝕刻器/灰化器,具有實現高精度蝕刻/灰化結果所需的所有功能。其綜合特性使其適合多種蝕刻/灰化應用。先進的硬件和軟件功能,加上集成的安全系統,確保Plasmalab 100為所有用戶提供一致而可靠的蝕刻/灰化性能。