二手 PLASMATHERM 790 #293738215 待售

PLASMATHERM 790是一款用途廣泛的等離子體蝕刻器/asher設備，設計用於半導體制造、MEMS（微機電系統）制造以及研發環境中的高級蝕刻、灰化和薄膜沈積工藝。此尖端系統提供精確的過程控制、高均勻性和出色的可重復性,非常適合需要精確表面修改和材料去除的各種應用。790具有雙頻射頻等離子體源，在整個過程腔室提供穩定且高度均勻的等離子體密度。這種均勻性對於在不同尺寸和形狀的基板上實現一致的蝕刻和灰化結果至關重要。該裝置能夠處理直徑達200毫米的基板，使其適合加工標準半導體晶片以及用於研究應用的較大基板。PLASMATHERM 790中的等離子體源可以在連續波（CW）和脈沖模式下操作，使使用者可以靈活地量身定制等離子體特性，以適應其特定的工藝要求。該機配備了一系列氣體輸送選項，包括用於精確控制氣體流量的質量流量控制器，以及用於優化氣體混合和輸送到加工室的淋浴頭氣體分配工具。790的關鍵特征之一是其先進的流程監控能力。該資產配備了實時端點檢測模型，允許用戶通過監測光發射信號、射頻功率、氣體流速等關鍵過程參數來精確控制蝕刻或灰燼過程。此反饋控制機制可確保工藝在所需的端點停止,從而防止基板過度蝕刻或不足蝕刻。PLASMATHERM 790還提供一系列蝕刻化學，以適應各種材料類型和工藝要求。該設備能夠對矽、二氧化矽、氮化矽、金屬和半導體器件制造中常用的其他材料進行幹蝕刻。此外，該系統可用於等離子體灰化工藝，以便在進一步加工之前從基板上去除光致抗蝕劑和其他有機汙染物。在自動化和過程集成方面,790與高級軟件包兼容,這些軟件包支持配方管理、數據日誌記錄和遠程監視功能。該設備可無縫集成到多工具群集平臺中,以實現高通量制造環境,從而在不暴露於環境條件下的情況下,在工藝室之間高效地傳輸基板。總體而言，PLASMATHERM 790是半導體和MEMS應用中用於先進等離子體蝕刻和灰分工藝的最新解決方案。該機器具有卓越的工藝控制、高均勻性和多用途能力,非常適合研究和生產環境,在這些環境中,精確的表面修改和材料去除對於實現高設備性能和產量至關重要。