二手 PLASMATHERM 790 #293775580 待售

PLASMATHERM 790是一款尖端的等離子體蝕刻器/asher設備，設計用於在研究或生產環境中對半導體和其他材料進行精確蝕刻和清洗。這款高性能工具配備了先進的技術，提供卓越的工藝控制、均勻性和可重復性，使其成為半導體、MEMS、納米技術等行業廣泛應用的理想選擇。790的特點是具有高密度等離子體源的復雜等離子體加工室，通常采用感應耦合等離子體（ICP）技術，產生高反應性等離子體，有效蝕刻和清潔基板表面。該系統能夠處理200 mm以下的各種晶片尺寸,並提供可自定義的配置,以適應不同的工藝要求。PLASMATHERM 790的主要亮點之一是其先進的工藝能力，包括蝕刻和灰化功能。蝕刻是半導體制造中的一個關鍵過程,用於有選擇地從晶圓表面移除材料層,以創建陣列、溝槽或用於設備制造的通風。790提供了對蝕刻特征的蝕刻速率、選擇性和輪廓的精確控制,使用戶能夠實現亞微米分辨率的高精度陣列。除了蝕刻之外，PLASMATHERM 790還可以作為一種灰化器，用於在蝕刻過程後從晶片表面去除有機汙染物、光致抗蝕劑殘留物或其他有害材料。單元中的asher模塊利用等離子體和反應性氣體的組合，在不損壞底層的情況下高效清潔基板，確保最終裝置的質量和可靠性。790配備了一系列先進的控制功能，以優化工藝性能，確保結果一致。該機包括高度可配置的氣體輸送工具、精確的射頻功率控制、溫度控制和壓力調節，根據應用的具體要求量身定制等離子工藝參數。此外,還將資產與高級端點檢測功能集成在一起,以實時準確監控蝕刻或灰化過程的進度,從而實現精確的過程終止和端點控制。此外，PLASMATHERM 790還提供了一個用戶友好的界面，具有先進的軟件控制，便於操作和監控工藝參數。該模型允許用戶創建和存儲自定義流程配方，執行自動流程優化，並生成詳細的流程報告用於分析和文檔。高級數據記錄和分析工具使用戶能夠跟蹤流程參數、監控設備性能,並確定故障排除和優化的任何潛在問題。總體而言，790是一種最先進的等離子體蝕刻器/灰燼系統，旨在滿足現代半導體和材料加工應用的苛刻要求。PLASMATHERM 790憑借其先進的技術、卓越的工藝控制和多功能性,為研究、開發和生產環境中的高精度蝕刻和清潔過程提供了可靠的解決方案。