二手 PLASMATHERM 790 #293800249 待售

ID: 293800249
優質的: 1997
Reactive Ion Etcher (RIE) Type: Single-chamber 1997 vintage.
PLASMATHERM 790系列是一種先進的蝕刻器,用於各種材料的半導體制造應用。它是一種多室蝕刻設備,可以處理五個晶片,直徑可達8英寸/200毫米。它有三個腔室,提供了包括低溫蝕刻、高溫蝕刻和灰化在內的高水平的工藝靈活性。系統的加工能力包括最高20 μ m/小時的蝕刻速率和最高18 μ m的蝕刻深度。790系列配備了先進的等離子體源,以確保所有蝕刻和灰化過程的最大均勻性和可重復性。支持先進等離子體控制的高頻電源允許用戶精確控制蝕刻室內的等離子體參數。此外,該單元還配備了先進的監控功能,如等離子體參數閉環反饋、端點檢測、自動晶圓對準等。該機器的設計符合半導體制造設施的嚴格環境和安全要求。可在一級清潔環境下運行,清潔幹氣流量可調,正壓隔離,氣體交換快捷。該工具還配備了氣體過濾設備,以確保防止過程汙染的最佳保護。該模型與一系列化學物質相容,其中包括的有氙氣、氦氣、氮氣和氧氣,以及一系列蝕刻和灰化材料,如Si、GaAs、聚酰亞胺、金屬和光致抗蝕劑。這使用戶能夠在最短的設置時間內快速切換不同的蝕刻工藝和材料。PLASMATHERM 790系列為半導體制造應用提供了通用、高效、可靠的蝕刻設備。其廣泛的化學和蝕刻材料結合其先進的等離子體源和靈活、高性能的特點,使其成為要求苛刻的半導體環境的絕佳選擇。
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