二手 PLASMATHERM 790 #9124022 待售
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ID: 9124022
晶圓大小: 2"-6"
優質的: 1993
PECVD Deposition system, 2"-6"
PC OS controlled
8" Electrode
Advanced Energy RFPP - RF5S power supply
Gas panel: 5 MFCs- N2, SiH4, NH3, N2, CF4
NESLAB RTE III Chiller
Power supply: 208 V, 3 Phase, 60 Hz
1993 vintage.
PLASMATHERM 790是為各種研發和生產應用而設計的高精度蝕刻器/asher。它配備了強大、穩定、精確的等離子體源,具有最優的高選擇性效率。設備采用先進的微波等離子體技術,實現最大程度的蝕刻和灰分再現、工藝精度、整體質量控制。790利用強大的射頻電源以及先進的激光控制系統和高效等離子體發射器,實現精確的過程控制和量身定制的吞吐量。這個單元的核心是一個獲得專利的ASI(原子機器接口),它提供了對每個處理步驟分別進行編程的能力,允許復雜的處理和苛刻的要求。該工具為流程優化提供了高級定時流程,可通過各種參數進行微調。它還配備了先進的控制工具,可以幫助實現均勻的蝕刻深度和工藝幾何形狀。此外,PLASMATHERM 790還具有快速可靠的可重復性功能,可確保在整個生產運行過程中結果的一致性。該資產提供多種工藝選項,如氣體蝕刻、高壓和低壓等離子體蝕刻、反應性離子蝕刻(RIE)和納米結構,可通過高級CAD建模、建模動畫和集成光學檢查集成到單片運行中。該模型還具有集成的兩級真空設備,對等離子體源提供無與倫比的控制,使系統具有出色的工藝通用性。此外,790還配備了溫度監控、射頻泛濫、過程評估和優化以及產品驗收測試等高級功能,以確保準確性和可重復性。利用其集成軟件包,用戶可以監控和分析等離子體操作,並為特定應用創建自定義配方。該單元的用戶友好界面允許簡單直觀的操作和配置。總體而言,PLASMATHERM 790是要求苛刻的應用程序的理想蝕刻器/asher。它提供了通用、高精度的蝕刻/灰化工藝,以及卓越的控制功能。這臺機器非常可靠、可重復、經濟高效,對於希望保持生產線高效運行的企業來說,它是一個有吸引力的選擇。
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