二手 PLASMATHERM 790 #9156748 待售
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ID: 9156748
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
Reactive Ion Etcher (RIE), 8"
Windows: PC Controlled with flat panel display
Lower electrode, 11"
MKS 919 Ion gauge controller
ADVANCED ENERGY RFPP RF10S Power supply, 1000 W
LEYBOLD 361C Turbo 208 V
Gas panels:
5 MFCs
O2-50 sccm
Cl2-100 sccm
Ar-200 sccm
CF4-200 sccm
CHF3-200 sccm
No pumps / Chillers
1996 vintage.
PLASMATHERM 790是由LPKF製造的蝕刻器/asher。790采用射頻發生器,能夠在無劃痕表面的情況下,將單層或多層多氯聯苯各向異性蝕刻到20 µm的最小寬度。本公司先進的工藝控制算法滿足行業領先的吞吐量和質量要求,要求苛刻,可重復。PLASMATHERM 790是一款高端精密蝕刻機。它采用自動化過程控制算法和先進的工作流功能進行設計,優化了蝕刻周期時間,從而獲得了高吞吐量和高質量的結果。790用途廣泛,因為它可以處理最小線寬為20 µm的單層和多層多氯聯苯。它還通過創新的蝕刻工藝提供了出色的非刮擦表面。PLASMATHERM 790易於使用和維護。它有一個直觀的用戶界面,使操作員能夠快速從機器中獲得最大的收益,而不必經過漫長的學習曲線。也很容易自訂其設定,以符合每份工作的個別要求。為790供電,它使用20 kHz射頻發電機,能夠在低電壓下產生非常高的電流。該設備可以配置為負離子或正離子,使其適合各種蝕刻工藝。PLASMATHERM 790還可以與可選的UV閃光燈曝光系統相結合,提供改進的效果。微波發生器的高電流也保證了在非常高的速度下發生蝕刻。790是出於安全考慮而設計的。該部門遵守EMC指令,並獲得CE和CA認證。它還有一個先進的過濾機器,不僅過濾出灰塵顆粒,還能防止蝕刻板受到汙染。總體而言,PLASMATHERM 790是蝕刻單層和多層多氯聯苯的絕佳選擇,因為它能夠產生最小線寬為20 µm的高質量結果。其先進的過程控制算法也使其易於使用和維護,其射頻發生器保證了高速蝕刻。其安全措施使其成為可靠和安全的蝕刻工具,其可選的紫外線暴露資產使其成為多氯聯苯蝕刻工藝的通用和有價值的工具。
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