二手 PLASMATHERM 790 #9230292 待售

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ID: 9230292
優質的: 1993
Dual chamber RIE/PECVD system Left chamber: RIE O2, H2, CF4, CH4, SF6, CHF3, Ar Right chamber: PECVD N2, N2O, 2% SiH4 in N2, 2% SiH4 in He, NH3, CF4 + O2, He, Ar Heater: Depositing oxides and Nitrides (250°C - 300°C) Manual / Automatic mode RF Generator Maximum RF power: 500 W 1993 vintage.
PLASMATHERM 790是一款用於半導體制造的先進蝕刻和asher設備。它被設計為高效、精確,提供具有最大重復性的光刻質量蝕刻結果。該系統采用魯棒蝕刻控制和真空室技術,用於超低摻雜水平和受控輪廓控制。790能夠通過提高均勻性、延長蝕刻工具壽命、提高吞吐量、提高產量等方式提供優越的工藝改進。PLASMATHERM 790的先進技術利用直寫蝕刻,一種使用聚焦光束蝕刻給定材料最多4層的方法。這種方法比濺射、離子束蝕刻和激光燒蝕實現更高的保真度。790能夠以2微米特征尺寸或更大的驚人精度蝕刻和重新蝕刻材料。這使制造商能夠創建更精細的設計和更小的功能。該裝置有一個10 W RF電源,它提供了以更高速率蝕刻的能力,同時確保最小的離子汙染。此外,PLASMATHERM 790的保護塗層設計用於在每一個蝕刻過程中保持一致的進度。這樣可以確保均勻性,並且無需頻繁調整蝕刻參數。790還有原地清洗和重新蝕刻選項。這與需要在蝕刻步驟之間進行手動清洗的舊流程相比具有顯著優勢。原位清洗和重新蝕刻可減少未對準問題,提高產量。此外,這臺機器能夠提供更好的過程穩定性和減少蝕刻粒子的產生、波動和超速。PLASMATHERM 790設計用於OEM醫療、電信、汽車和消費電子產品。因此,該工具能夠進行基礎材料加工的半熟練操作。事實上,790已被證明是一項可靠和方便用戶的資產,其直觀的圖形用戶界面和全面的知識數據庫能夠方便操作。此外,該模型完全自動化、方便和堅固,具有高性能和用戶友好的功能,可確保在制造精細元件時獲得可重復和可靠的蝕刻效果。
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