二手 PSK Ultima III #9083216 待售

PSK Ultima III是來自Plasma-Therm的蝕刻器/灰光器，它使用感應耦合等離子體技術來啟用多種關鍵材料處理能力。它是第一個整合感應耦合等離子體處理的生產蝕刻器/asher，提供短高密度等離子體與增加離子能量的最佳組合。Ultima III具有堅固的設計，以確保高可用性和高可靠性的處理應用程序，如非光刻抗蝕劑條、去除物、RIE（反應性離子蝕刻）和ICP-CVD（電感耦合等離子體-化學氣相沈積）。它結合了以前技術的優勢,例如改進的蝕刻均勻性和深度控制,使用戶能夠處理各種各樣的材料類型、層、尺寸和設計。PSK Ultima III的蝕刻窗口采用感應耦合等離子體（ICP）技術，產生具有增加離子能量和密度的短、高密度等離子體。這有助於提高蝕刻速率、產量和選擇性、最小化輪廓和增加深度控制,並減少材料的重新沈積。蝕刻窗由射頻電極及其水冷真空密封上電極組成。通過ICP源傳遞的源功率通過使用調制的射頻功率保持在嚴格控制的能量範圍內。這個源功率然後被轉換成離子，然後由偏置電壓加速並指向基板。ICP源可以在晶體管級精度下產生離子能量和密度增加的短高密度等離子體。這樣可以提高蝕刻速率、產量和選擇性、最小化輪廓和增加深度控制以及減少材料的重新沈積。蝕刻窗的腔室設計緊湊，改善了基板處理的可及性。它還采用了較低的凈化氣體要求,並采用了獨特的功能,通過限制啟動過程中的功率來優化任何處理序列的安全性。基板支架和電極組件設計用於精確調整蝕刻窗參數和工藝，允許精確控制腔室壓力、氣體流量和基板功率。基板支架組件還包括一個堅固的自動基板處理機制，能夠可靠的基板定位和交換，無需人工幹預。Ultima III設計用於具有卓越遙控能力的獨立和集成真空系統。該控制程序旨在提供與手動和自動過程控制的無縫集成。用於數據采集、控制和分析的用戶友好的圖形用戶界面為配方參數的設置和優化提供了方便。該軟件還能夠與SCADA系統通信，提供系統狀態、性能和流程數據的實時反饋。綜上所述，PSK Ultima III是來自Plasma-Therm的蝕刻器/灰光器，利用感應耦合等離子體（ICP）技術，能夠對某些材料進行精確處理。該裝置的特點包括：先進的射頻電極和水冷真空密封的上部電極、能夠產生具有增加的離子能量和密度的短高密度等離子體的ICP源、緊湊的腔室設計、改進的基板處理的可及性、堅固的基板處理自動化機制以及卓越的遙控能力。