二手 FEI Expida 1265 #9194878 待售
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ID: 9194878
晶圓大小: 12"
Dual beam FIB, 12"
Electron beam image resolution: 3 nm-5 nm
Beam voltage: 1-30 kV
Ion beam resolution: 5 nm-7 nm
Beam voltage: 30 kV
Digital control: Windows environment
Stage accuracy: 1.5 µm over, 12"
Field Emission Scanning Electron Microscopes (FE-SEM) With lens detection
Load lock, 8"-12"
Multi-stub holder, 8"
GISs:
PD (Platinum deposition)
IEE (Insulator enhanced etch)
ID (Insulator deposition)
EDX Analysis: Down to 0.2 microns in size
Facility requires LN2
EDX OXFORD Instruments
No load ports
SECS / GEM Capability.
FEI Expida 1265是一種高度先進的離子銑削設備，設計用於精密樣品表面制備和穩定可靠的操作。該系統提供了高度的多功能性,使用戶能夠輕松地從銑削加工切換到其他樣品準備任務,從而提供更高效的操作。Expida 1265設有兩個封閉室，用於樣品制備和後處理。Prep Chamber提供了一個集成的離子束源和一個消融籠,以及一個可選的螺旋冷卻板單元,以幫助在整個銑削操作過程中保持理想的樣品溫度。後處理室還提供一個螺旋冷卻溫板，並設計有一個附著的非真空源和高性能、高效的真空泵，以幫助保護樣品的微妙表面。FEI Expida 1265利用高能離子束銑床，能夠產生極高分辨率的銑削曲面，具有非常細膩的細節。此外，該機還提供可編程和調整的自動化表面加工控制，以提高銑削工藝的精度。Expida 1265還具有智能自適應過濾技術,可幫助防止在過程中對樣品造成任何損壞。FEI Expida 1265是一種理想的離子銑削工具，用於各種樣品制劑，包括蝕刻、燒蝕和切割。此外,它的智能自適應濾波技術有助於確保每次銑削操作的最高精度。Expida 1265是一種用途廣泛、高效且可靠的資產,可輕松定制以滿足特定表面準備任務的需求。
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