二手 JEC / JAPAN ENGINEERING COMPANY MA-2400 #9005623 待售

JEC/JAPAN ENGINEERING公司MA-2400 Mask Aligner是光刻的重要工具,它提供對半導體晶片特征的精確和可重復控制。這種高度自動化的設備允許將光掩碼精確地配準到晶圓表面上，以產生超高精度的精確電路模式。JEC MA-2400 Mask Aligner具有高度精確的兩級陣列設備,為精細陣列應用程序提供卓越的性能。內置的Autocollimator and Image Processor技術提供了掩模與晶圓的精確對齊,可重復性在1 um以內。該軟件對用戶友好,為可重復的進程提供自動參數設置和維護控制。該系統可容納高達8英寸/200毫米的晶片，可以加工厚度在25微米至150微米之間的基板。Compact Dual Beam Unit很容易設置，允許使用單梁機可以運行的進程縮短循環時間。JAPAN ENGINEERING公司MA-2400 Mask Aligner是一種高度通用的工具,可用於各種應用程序,包括接觸打印、掃描和1：1復制。該資產的機械和光學部件具有很高的空氣動力學性能，並針對優越的性能進行了優化。MA-2400 Mask Aligner采用快速加熱真空卡盤設計,即使基板尺寸可達8英寸/200毫米,也能確保高精度。卡盤壓力視基板厚度而定，可以調節卡盤溫度，以更好地控制基板。JEC/JAPAN ENGINEERING公司MA-2400 Mask Aligner可用於從Class 10到ISO 7的各種清潔室環境,使其成為敏感過程的理想選擇。此外，該模型可以與任何種類的聚芳酸酯一起使用，因此可以與聚碳酸酯這樣的耐酸材料結合使用。JEC MA-2400 Mask Aligner是用於光刻的一種非常寶貴的工具,它提供了廣泛的功能和優勢,可確保精確、可重復地控制精細電路模式。高度自動化的設備易於安裝、使用和維護,為光刻工藝提供了有效的解決方案。