二手 KASPER / EATON / QUINTEL 2001 #9003958 待售

ID: 9003958
晶圓大小: 4"
Mask aligner, 4" Split field optics 350 watt light source Resolution: 1 to 3 microns (process dependent) Available options: 2" and 3" wafer conversion kits.
KASPER/EATON/QUINTEL 2001是一種面罩對齊器-用於制造微電子器件的專用設備。它設計用於在晶圓制造過程中將光刻面膜和其他組件精確定位到基板上。設備的主要特點是精度高。這是通過兩個獨立的設備,一個EATON掩模對齊器和一個KASPER級實現的。QUINTEL掩模對準器容納了光掩模,該光掩模放置在激光直接圖像(LDI)控制標線上。LDI控制標線從基板上進行高細節測量,確保光掩模的放置盡可能準確。收集到的數據被轉移到KASPER/EATON/QUINTEL階段。該裝置使用精密馬達在基板上精確移動光掩模。電機采用EATON正交編碼器絕對定位(QEAP)技術,保證了光掩模的高度精確定位。這兩種裝置結合在一起,形成了EATON 2001蒙版對齊器,允許極其精確的蒙版對齊。KASPER 2001面膜對準器被用於多種光刻工藝,包括單層曝光、雙層曝光和預制圖。它是用於創建微電子設備的一套更廣泛的設備的一部分,包括曝光源、軌道系統、晶圓步進器和晶圓步進器裝載機。QUINTEL 2001的設計允許更輕松地與其他工具集成,從而減少了制造過程的設置時間和復雜性。除了它的準確性和對準速度,2001面罩對準器內置了一系列的安全特性的設計。它還配備了電源故障保護系統,確保口罩即使斷電也能牢牢固定在適當的位置,還設有維護警報系統,確保設備正確維修和定期清洗。KASPER/EATON/QUINTEL 2001口罩對準器是一種功能極其強大且可靠的設備,使其成為微電子工業中必不可少的工具。它已被證明是可靠和高效的,使其成為制造商和運營商的熱門選擇。
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