二手 KASPER / EATON / QUINTEL 2001 #9192045 待售

KASPER/EATON/QUINTEL 2001是一種掩模對準器，是一種精密的半導體製造設備，用於製造集成電路和其他納米技術裝置。這個特定的對齊器由四個主要組件組成，一個晶片級、一個標線、一個掩模和一個光源。晶圓級是放置晶圓和其他項目的表。標線板是一個電子控制的板，在曝光時容納並精確移動掩模和晶片。遮罩是一塊金屬板，在預定位置有透明和不透明的窗口，用作要寫在晶圓上的地形圖案或圖像。原始圖像存儲在掩碼內存中,並在需要時傳輸到掩碼。最後，光源照亮掩模，使其圖樣在曝光時投射到芯片上。EATON蒙版對齊器設計為提供高精度的蒙版和晶片對齊，以獲得最佳分辨率。它能夠掃描整個晶片表面，最小特征尺寸小於1 µm，精度在0.5µm水平。此外,它在整個芯片（300 mm2）上提供了5 µm的邊到邊對準和35nm x-y的對準精度。KASPER掩模對齊器還有其他提高其準確性和性能的功能，例如其精確的端點控制。此功能監視整個掃描過程,並可以在該過程的任何位置停止掃描以進行進一步調查。對齊器還包括不斷在後臺運行的集成系統診斷程序,有助於快速識別可能出現的任何缺陷或問題。最後,它的一套軟件工具有助於提高對齊過程的準確性,包括在1 µm精度範圍內進行3 D叠加測量。總體而言，QUINTEL掩模對齊器設計用於將圖像和圖樣精確寫入芯片，對於創建高度先進和可靠的半導體和其他納米技術設備至關重要。它提供了高度精確的對齊、高分辨率的功能以及高級診斷和軟件工具。因此，它是現代半導體制造格局的重要組成部分。