二手 NANO SYSTEM DL-100 #9208181 待售

NANO Equipment DL-100是一種掩模對準器，專為納米級制圖工藝的精確掩模對準而設計。該系統能夠處理直徑最大為4英寸的晶片，從而可以在廣泛的應用中使用。該單元由三個主要組件組成：對齊器單元、光學級和晶圓級。Aligner單元包括一個鏡頭陣列和一個帶有實時測量和用戶友好軟件的控制機器。作為工具核心的光學級由精密光學顯微鏡和高分辨率相機組成。晶片級的設計是為了確保精確定位，並在對準過程中提供晶片的安全保持。光學顯微鏡的放大倍率高達400倍，用於放大圖像並將圖樣精確定位到晶圓上。相機提供圖案化晶片的原位曝光，並捕捉對準結果。該軟件為用戶提供了廣泛的對齊功能，包括模式識別和自動定心，可以大大縮短對齊時間，從而最大限度地提高生產率。控制資產還允許廣泛的G-Code序列和宏編程,以實現流程自動化,並將模式布局簡化為單行代碼。DL-100提供了高精度的模式對齊，使設計能夠準確地呈現與最小數量的廢料。它能夠高速產生復雜復雜的模式，並且由於其先進的控制模型而能夠實時進行調整。這對半導體行業有利，因為它的高吞吐量能力。NANO設備DL-100是實現高精度模式和工藝的理想系統。其強大的光學、先進的軟件、多軸控制、精確對準相結合，可輕松達到晶圓工藝的最高精度和速度。憑借其多才多藝的設計，DL-100可以支持廣泛的應用，包括3 D圖案、深度蝕刻和薄膜沈積。