二手 QUINTEL / NEUTRONIX 7000 #293631832 待售

ID: 293631832
晶圓大小: 8"
High resolution mask aligner, 8" Resolution lithography: ASIC VHSIC GAs Silicon Sapphire Thin film fine line.
QUINTEL/NEUTRONIX 7000 Mask Aligner是一種計算機控制的自動對準設備,設計用於在半導體器件生產中實現各種光掩模和晶圓的可靠、精確對準。此高性能系統提供了將光掩碼與晶片對齊的全自動過程,為精細對齊和粗糙對齊提供了卓越的性能。該單元配備了兩個獨立的屏蔽單元,自動對準能夠註冊精度5um或更低。這樣可以確保在暴露前在基板上正確放置口罩。機器利用非常高的真空汙染控制環境,在使用高度敏感的光掩模時有助於保持盡可能高的分辨率和吞吐量。工具在對準和曝光過程中使用數字馬達控件移動蒙版。這種運動控制確保了光掩模的精確位置和動態成像。它還配備了先進的光學對準資產,利用可調節的遠心光學提高分辨率,與SiO2、SiN、聚酰亞胺、玻璃等多種基板的光學特性相匹配。QUINTEL 7000 Mask Aligner是一種專用的Mask Aligner,專門設計用於生產比定制生產光掩模更高產量質量的設備。它還能夠有效地處理金屬圖樣、陣列打印等。該模型經過精密設計,可實現光掩模以及各種尺寸、厚度和形狀(包括圓形基板)的光滑、可重復和可靠對齊。總體而言,NEUTRONIX 7000 Mask Aligner是一種可靠高效的自動化設備,通過將光掩碼精確對準晶片來生產高質量的設備。它為精細和粗糙的對齊任務提供了無與倫比的速度、精度和精度組合。該系統還具有先進的電機控制、光學對準和真空控制功能,確保光掩模與基板的可靠和準確對準。
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