二手 QUINTEL / NEUTRONIX 7000 #293816223 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 293816223
晶圓大小: 4"- 5"
優質的: 2001
Mask aligner, 4"- 5"
Infrared (IR) backside alignment illumination
OPTEK QTL2001 Split-field microscopes
TS PRODUCTS 1200 Precision actuators
Q-500 Lamp house
UV Power supply unit
2001 vintage.
QUINTEL/NEUTRONIX 7000 Mask Aligner是一種用於制造半導體芯片的高精度光刻工具。它是一種可升級的設備，為各種設備結構的生產提供了先進、經濟高效、可靠和精確的光刻解決方案，包括纖細線寬。QUINTEL 7000 Mask Aligner是一種多軸、可移動的遮罩系統，利用先進的步進電機和基於激光的瓷磚圖樣發生器，在光刻過程中將遮罩原型精確定位到基板上。無論蒙版設計的大小或形狀如何,該單元都可使用平面視場將蒙版圖案與基板對齊。該機器的最大分辨率為3 μ m,能夠在各種基板（如絕緣體矽（SOI）上產生高精度的納米級特性。NEUTRONIX 7000 Mask Aligner由先進的步進電機和光機械組件組成。步進電機用於將掩模原型精確定位到平面視場上。它與能夠在基板上產生瓷磚圖樣的層壓圖樣發生器相結合，使用戶能夠將設計精確地匹配到基板上。光機組件在平面場照明下提供高分辨率對準，有助於減少由於基板上的遮罩運動而引起的遮罩振動和失真。此掩模對齊器具有高級功能,可確保低缺陷的生產。它配有一個由中央定位板和可移動托架組成的兩軸工具，這兩者都是由步進電機驅動的。資產還具有自動對齊模型,允許用戶編程的晶圓位移和X、Y和Z軸旋轉。集成的晶圓處理設備使基板的裝卸速度更快，從而簡化了生產過程。總體而言,7000 Mask Aligner提供了高度精確的對齊功能,可在各種基板上產生微小的特征。此光刻系統提供了更高的性能、精確和可重復的對齊方式以及高吞吐量。它的模塊化設計和可升級軟件使其成為原型設計和生產應用程序的通用且經濟高效的解決方案。
還沒有評論