二手 QUINTEL / NEUTRONIX NXQ 4006 #9293868 待售

ID: 9293868
Mask aligner R&D & pilot line production Microelectronics LED / HB LED 3D IC SIOP WLP 2.5D Interposer MEMS Bio MEMS Micro fluidics Compound semi Solar (HCPV) Optoelectronics applications.
QUINTEL/NEUTRONIX NXQ 4006是一款高速、功能齊全的生產面罩對準器,用於半導體制造。它利用最新的掩模技術提供了卓越的對準精度和可重復性。QUINTEL NXQ 4006具有獨特的激光設備,旨在減少放置過程中可能發生的蒙版放置錯誤。該系統具有自動對齊和放置過程,這意味著無需任何手動幹預即可設置和操作該系統,從而大大減少了精確對齊掩碼所需的時間和工作量。NEUTRONIX NXQ4006的最大對準精度為3微米(3 µm)。這種提高的精度是通過使用激光幹涉儀測量光掩模的相對位置來實現的。與其他掩碼對齊系統相比,這可以實現高度精確的對齊,並且更容易重復性。該單元還具有最大25 ns的脈沖寬度,使其能夠處理最復雜的掩模設計。可選的脈沖加載模塊(PLM)可實現高達50 ns的脈沖寬度。此模塊用於確保即使在激光發射的能量水平增加的情況下,掩模仍將在晶圓上完全對齊。QUINTEL NXQ4006還提供了在對準過程中快速調整掩模相對於晶圓的位置和旋轉的能力。此動態調整可以手動執行,也可以完全自動化,以實現最高的效率。QUINTEL/NEUTRONIX NXQ4006利用六軸級提供精確的定位控制。此階段允許亞微米定位,並使掩模每次都能在完全相同的位置對齊,確保最大屈服和準確度。該機還配備了雙激光工具,允許同時對準兩個口罩。最後,NEUTRONIX NXQ 4006具有一個自我診斷資產,它在啟動時運行多個測試,以檢查是否存在任何可能的錯誤或未對齊。這樣可以確保作業順利完成,並提供最高質量的對齊方式。總之,NXQ4006是一種高級掩碼對齊模型,它結合了最新技術,可提供業界領先的準確性和可重復性。它非常適合大批量生產,能夠處理復雜的掩模設計和復雜的對齊任務。
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