二手 QUINTEL / NEUTRONIX Ultraline 7000 #200801 待售

QUINTEL/NEUTRONIX Ultraline 7000是光刻工藝中使用的一種精確、自動化的掩模對齊器，其中圖樣被轉移到半導體芯片的表面。QUINTEL Ultraline 7000提供高精度和大幅面成像設備,具有真空室,旨在產生可重復和可靠的結果。NEUTRONIX Ultraline 7000的核心是它的晶片級，一種精密的壓電元件，以極高的精度移動基板。晶圓級直徑5英寸，設計用於支撐廣泛的基板，直徑最大8英寸，最大重量600磅，系統提供3 µm ±的定位精度和2 µm ±的可重復性。Ultraline 7000還包括光刻頭，具有267 nm或351 nm的紫外線和0°或90°的輻照角度等能源。QUINTEL/NEUTRONIX Ultraline 7000還與包括數碼相機、顯微鏡物鏡和改善圖像對比度的保護濾鏡在內的先進光學單元集成在一起。該機具有使用濾波器的能力，可以阻擋帶外輻射，以盡量減少表面汙染。QUINTEL Ultraline 7000便於使用免維護的插入式光掩模進行曝光控制,這是一種石英板,其石英圓柱體裝有重金屬,其精確設計用於傳輸（或阻止）輻射。它還使用真空工具，以確保晶圓腔中可重復的均勻真空和集成的自動噴嘴清洗資產，以便更可靠的曝光。NEUTRONIX Ultraline 7000不需要任何外部供氣模型，電氣設備獨立於任何電氣連接運行，因此該過程被快速設置。該系統還包括一個聚合物機器人手臂，帶有夾持臂，用於晶圓和口罩的裝卸。總體而言,Ultraline 7000是一種有效的自動化掩模對齊器,能夠產生精確一致的光刻結果。通過利用其先進的功能，機器可以幫助創建高質量的設備，從而提高半導體產品的效率和性能。