二手 QUINTEL / NEUTRONIX Ultraline 7000 #293618166 待售

QUINTEL/NEUTRONIX Ultraline 7000 Mask Aligner是一種高效、精確的微電子制造設備,用於創建精確、可重復的芯片設計。它用於對齊特定圖樣並將其暴露於聚焦光源（如激光）瞄準的晶片上。它旨在在矽和復合半導體加工中執行先進的光刻工藝，從而能夠快速準確地生產大規模集成（LSI）電路設計。QUINTEL Ultraline 7000的基本操作包括用蒙版曝光預制晶片，意即攜帶所需圖樣的圖像，並與光刻過程的精確坐標對齊。掩模對齊器包括一個安裝激光及其光學器件的框架,以及在曝光過程中移動晶片的X-Y級組件。晶圓的精細定位對於精確的光刻至關重要，NEUTRONIX Ultraline 7000在200微米/秒的速度下提供了兩個微米的X-Y精度。它的模塊化允許多種集成選項,並且與大多數QUINTEL產品一樣,它的控制系統可以輕松快速地聯網到其他工具,從而創建一個更加自動化和高效的流程。Ultraline 7000可以裝載多種鏡頭類型，如0.5微米透鏡、1.0微米透鏡、1.5微米和2.0微米透鏡，使其能有效覆蓋廣泛的應用。此外,QUINTEL/NEUTRONIX Ultraline 7000 Mask Aligner還配備了各種安全功能,如氣體保護和晶圓斷裂或電源故障時自動關閉。它還具有自動曝光和光束感知系統，以檢測和避免障礙。NEUTRONIX為任何技術問題或需要提供實地支持和培訓。其開放式平臺允許進一步定制並集成到其他工藝中，確保QUINTEL Ultraline 7000掩模對準器是先進微電子制造工藝的有效可靠選擇。