二手 QUINTEL Q4000-4IR #9132217 待售

QUINTEL Q4000-4IR Mask Aligner是制造先進微電子元件的強大工具,例如集成電路、MEM和Bio-MEMS。Q4000-4IR是一種四合一離子束光刻設備，提供正負光抗蝕劑曝光、光掩模圖案和掩模對準。QUINTEL Q4000-4IR專為多種研究和生產應用而設計，如MEM、柔性電子、生命科學和納米技術。該系統具有高度的精確度和精確度,能夠處理超細特性。Q4000-4IR具有獲得專利的雙離子源設計,可提供更大的靈活性和成本節約。雙離子束能夠準確地將正離子和負離子輸送到光刻膠中。QUINTEL Q4000-4IR還具有高功率激光器和多維離子束遮罩對準單元（MBMAS），用於精確遮罩對準。集成的電子炮室可以快速高效地處理大型基板。Q4000-4IR的光刻曝光機能夠將圖像圖樣直接打印到光刻膠，分辨率高達4 um。高靈敏度的光掩模對準工具能夠提供關鍵微電子元件所需的高分辨率對準。Laser Align+資產允許快速、方便地調整光掩模與裸露層的對準，消除了顯微鏡下耗時的調整。QUINTEL Q4000-4IR配備了一系列安全和控制功能,以確保最佳性能。受控環境室在受控環境中保持Q4000-4IR,並提供壓力和溫度控制選項。優越的安全和診斷模型可以方便設備的維護和操作,以及快速的故障識別和解決。QUINTEL Q4000-4IR Mask Aligner旨在滿足當今先進的電子和光學公司需求。其強大的特性、精確精確的對準以及卓越的安全性和診斷特性使Q4000-4IR成為制造先進微電子元件和半導體器件的理想選擇。QUINTEL Q4000-4IR的多功能性確保了無論客戶是生產大容量系統還是原型系統,都可以依靠其準確性和可靠性。