二手 QUINTEL Q4000-4IR #9133885 待售

ID: 9133885
優質的: 2009
Manual aligner Substrate size from pieces to 100mm diameter Manual X, Y and theta alignment stage Vacuum / Pressure contact Exposure modes Manual tray loading feature Splitfield / Singlefield optical microscope Simple topside mask loading Infrared (IR) back side alignment UV / NUV Exposure optics Carousel loading CCTV viewing 2006 vintage.
QUINTEL Q4000-4IR是半導體工業中用於制造集成電路(IC)制造中的光掩模的精密掩模對準器。它具有緊湊、四板的設計和25微米的位置精度,非常適合高精度、高容量的光掩模生產。Q4000-4IR具有25微米特征定義,具有固定特征和可變形狀特征。對齊器能夠創建四個對齊板,允許光掩模在單個過程中曝光。對齊器的X和Y軸可以獨立移動,提供卓越的配準精度。對準器的高速曝光由高度先進的數字精密執行器精心控制,具有精確的速度和步長控制。這樣可以確保每次曝光都是完全一致的。QUINTEL Q4000-4IR具有強大而直觀的基於軟件的自動化系統,易於使用和編程。它可以被編程為自動對齊印版和曝光照片面罩。運算符界面允許通過易於理解的圖形菜單來控制所有函數。它符合GDSII/DXF Photomask標準。Q4000-4IR具有LED光源,它穩定、可靠、節能且持久。光源提供高亮度熒光,使曝光速率比傳統電子束光源快。該機還具有保持最佳真空的真空室系統,消除圖像失真。這種高科技的掩碼對齊器提供了出色的均勻性和吞吐量,從而可以在更短的時間內生產高分辨率的光掩碼。QUINTEL Q4000-4IR是定制和復雜的光掩模制造的理想選擇,提供精確、快速、經濟的操作和優異的效果。
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