二手 QUINTEL Q4000 IR #9258221 待售

ID: 9258221
Mask aligner.
QUINTEL Q4000 IR是專門為光刻設計的最先進的面膜對齊器。它在為包括微電子電路和光學元件在內的一系列應用制作精制圖樣方面效率很高。它的許多特性和功能(包括即時校正和快速激光曝光),提供了靈活性,可幫助用戶快速、精確地生成所需的圖案。該機采用傳統的包裝盒設計,內含紫外線光源以及反射和透射面罩對準器。光源是機器最重要的部件,波長為365nm或248nm。這些波長使得能夠在低紫外線吸收的情況下進行高質量的曝光。遮罩對齊器用於將圖樣精確暴露在基板上。Q4000 IR擁有由多個組件組成的最先進的成像和控制設備。其中包括分辨率為2.5 µm的高分辨率相機、CCD(電荷耦合器件)圖像捕捉系統、任意角度電子對準單元和雙軸移動機。機器的控制完全是電子的,由高精度步進電機和特殊的微米級數字控制工具組成。QUINTEL Q4000 IR還提供了一系列附加功能,包括自動對焦、晶片清洗、可編程晶片支架和可調曝光時間。機器的高度自動化允許即時校正,並確保高效和準確的過程。Q4000紅外還能夠進行急性數值圖像處理,從而最大限度地減少失真和邊緣效應。因此,該機器適用於一系列制造過程,並用於各種應用。QUINTEL Q4000 IR是最先進的口罩對準器之一,能夠保證卓越的質量模式定義和曝光。它具有多種特性和功能,可確保快速準確地生成所需的模式。此掩模對齊器提供了巨大的成本/性能價值,並允許用戶從高質量的光刻中受益,而無需投入大量資金。
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