二手 QUINTEL Q4000 Super Nova #9236254 待售

QUINTEL Q4000 Super Nova是一種口罩對準器，用於精密光刻，使用極端紫外線曝光源創建有圖案的材料。它是半導體光刻領域的先進工具，提供納米尺度的高分辨率和吞吐量。該Q4000利用高分辨率投影鏡頭設備實現了精確的圖樣繪制。這種光學系統由低頻光學群、高頻光學群組成。低頻組包括用於光束初始光學聚焦的長焦距透鏡。高頻光學組的主要元件是帶孔徑的飛行變焦、帶孔徑的炮塔雙峰和一個體積反射器，以及一系列的腔室和濾波器元件。這樣可以精確調整設備的成像特性,而無需機械運動。Q4000的光源是中功率激光器。這種激光器專長於高效的激光脈沖管理和低線緣粗糙度（LER），產生卓越的成像性能。照明控制機能確保整個晶片均勻的曝光分布精度，同時提供曝光劑量控制。接觸劑量由對準工具監測和調整。此資產包括自動對準程序,用於將掩碼或標線對準晶片或基板。它能夠測量標本定位，減少任何錯位，並找到各種可能用於校正的圖樣特征。該模型還包括一個對準能量監測儀，它使用激光束能量來檢測對準精度的任何變化以及可能需要什麼校正。Q4000的控制設備提供完全集成的模式控制。通過高分辨率模式編輯、數據去偏斜和高吞吐量自動編寫編輯軟件,模式編輯器允許使用合成、像素數組和實際存儲的模式對掩碼和晶圓幾何進行編程。這樣可以確保使用清晰的邊緣和尖銳的過渡來傳輸陣列的準確性。該Q4000允許嚴格的過程控制,並為芯片制造行業的陣列制作提供高精度。其高分辨率、吞吐量和能量束控制系統都為其在工業上的成功應用做出了貢獻。它為電子元件的創建提供了卓越的陣列性能，特別是在納米級芯片領域。