二手 QUINTEL Q4000 #293831189 待售
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ID: 293831189
Mask aligner
Mercury arc lamp
Submicron resolution
X, Y Alignment stage
Tray loading
Splitfield / singlefield optical microscope
Topside mask load
Substrate size: 4".
QUINTEL Q4000是為集成電路的高級光刻處理而設計的最可靠、用途最廣泛的掩模對準器之一。這臺自動化機器提供獨特的功能組合,使其成為生產高端半導體元件的理想設備。QUINTEL Q 4000配備了先進的光束壓力室，提供精確且可重復的光刻膠曝光。該腔室可承受高達20巴的壓力，非常適合先進的高精度工藝，如MEMS和TSV結構保形膜的濺射沈積。光束壓力室還裝有一個高端石英激光二極管（λ=260 nm），可用於進行精湛精度的曝光過程。集成光學設備采用光譜匹配的光學器件，具有優異的性能和最佳的層均勻性溫度補償。Q-4000集成了一系列通用的基於Cassette的晶圓處理系統,可在壓力室內提供精確且可重復的控制距離。機器配備了先進的自動聚焦裝置，確保在曝光光刻膠之前將焦點調整到樣品晶片表面。該裝置融合了世界上最先進的二極管-激光激發式ICP等離子體（DLE-ICP）發生器，提供了可調至多個非線性輪廓的均勻可控蝕刻工藝。這種激光蝕刻方法非常適合現代IC芯片中常見的極其復雜的結構，因為這種蝕刻工藝能夠產生極小、深、復雜的結構。對於高級光刻工藝,Q 4000可以與高級Mask-Editor計算機配對,該計算機提供了一種快速簡便的方法來轉換和生成具有高分辨率圖像的復雜光刻數據。蒙版編輯器工具與扁平和圓形蒙版形狀兼容,並提供精密的視覺增強工具以確保光刻膠的精確放置。總體而言,QUINTEL Q-4000是當今市場上最可靠、用途最廣泛的口罩對齊器之一。它提供了令人印象深刻的功能組合,使其非常適合生產高端半導體元件。
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