二手 CARL ZEISS AIMS 193 #293712702 待售
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單擊可縮放
ID: 293712702
優質的: 2004
Mask qualification system
Reticle size: 6"
Wavelength: 193 nm
Measuring source: Laser
Stage accuracy: ± 2 µm
Illumination: 1.5%
CD Dynamic repeatability: 6 nm
CD Static repeatability: 4 nm
Throughput: 36 / Hrs
Toxic gas
Sigma aperture
Field stop
Condenser lens
Work table
SCU
Objective lens
CCD Camera
PC
PC cable
Operating system: Windows
2004 vintage.
CARL ZEISS AIMS 193是為半導體工業設計的高精度掩模和晶圓檢測設備。高性能光學系統可確保圖像極其清晰,分辨率高達0.35 µm,最大圖像放大倍率為38倍,因此非常適合要求最苛刻的半導體元件。該單元旨在提供準確、可重復的測量,同時提供最大的靈活性和可擴展性。CARL ZEISS AIMS193機器具有高級檢查功能,包括自動位移、缺陷檢測、對比分析和線路合規性測試。該工具包括200毫米卡盤,可容納各種晶圓尺寸。內置軟件使用戶能夠輕松配置資產以滿足其特定需求,並包含常見電氣缺陷的數據庫。它還可用於跟蹤產品性能和檢測任何工程變更。它還具有廣泛的對準方法,可自動將晶片對準卡盤,從而獲得最高精度。這樣可以確保準確捕獲組件的關鍵區域。自動晶圓檢查過程允許用戶監控缺陷並快速識別變化。它消除了手動檢查的需要,從而實現了更快的生產周期和更輕松的產品開發過程。AIMS 193還配備了一套安全功能，包括一個滅菌模型，如果設備檢測到附近的未經授權人員，則會禁用該設備。這樣可以防止意外幹擾晶片或系統故障。此外，設備可以檢測晶片何時損壞，並可以自動暫停當前進程，以防止進一步損壞。總之,AIMS193是一個強大的檢測機器,提供卓越的圖像質量和精度.它為用戶提供了針對要求最苛刻的應用程序的一套全面的檢查和配置功能，並提供了效率和安全性的完美結合。
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