二手 CARL ZEISS AIMS 193 #293795556 待售
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ID: 293795556
優質的: 2004
Mask qualification system
Control unit
Reticle size: 6"
Wavelength: 193 nm
Measuring source: Laser
Stage accuracy: ± 2 µm
illumination: 1.5%
CD Dynamic repeatability: 6 nm
CD Static repeatability: 4 nm
Operating system: Windows
2004 vintage.
CARL ZEISS AIMS 193是一款尖端的掩模和晶圓檢測設備。它配備了高分辨率的模塊化檢測系統,使其成為確保用於制造集成電路的光掩模質量最高的理想解決方案。CARL ZEISS AIMS193配備了F-Theta校正失真補償器,確保成像光束精確聚焦並對準掩模表面。這樣可確保完整地檢查掩碼,並檢測到所有缺陷。光束還具有可調節的光斑尺寸,可根據不同的成像要求提供單元靈活性。該機配備了高分辨率成像光學器件,可檢測到亞微米級以下的缺陷。該光學器件設計用於廣域掃描和直線空中成像.此功能允許快速準確地檢查任何大小或結構的掩模。AIMS 193也有高速範圍的曝光設置,允許快速的檢查周期。這使得它成為大批量口罩生產線的理想選擇。最後,該工具配備了最先進的缺陷檢測算法,即使是最微小的缺陷也能識別出來。該算法將使工程師能夠比以往任何時候更快速、更準確地識別掩碼生產過程中可能出現的故障。綜上所述,AIMS193是為要求最苛刻的應用而設計的最先進的掩碼和晶圓檢測資產。它配備了高分辨率光學器件和強大的缺陷檢測算法,使其能夠識別到亞微米級別的缺陷。其高速曝光設置使其非常適合大批量的蒙版生產線,為工程師提供了確保最高質量的光掩版生產所需的準確性和靈活性。
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