二手 CARL ZEISS AIMS 193 #9196378 待售
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ID: 9196378
Mask qualification system
With COHERENT LDU ESI 500 Hz, FT, 193 nm
KL2500 LCD Microscope standard illumination system
TUILASER ExciStar S-Industrial V2
HALCYONICS Control unit
PHOTOMETRICS Quantix KAF1400-G1-M, P/N: A97J6002
MARZHAUSER WETZLAR Kg Scan, 260 x 240 MSM, P/N: 90-24-009-0000
XC-73CE CCD Video module
TUI LASER MCB500.
CARL ZEISS AIMS 193是一種用於晶片陣列和缺陷管理的掩模和晶片檢測設備。它是一個先進的成像系統，提供半導體掩模和晶圓上圖樣的亞微米分辨率圖像。成像單元捕獲掩模/晶片表面的數字圖像並跟蹤其開發過程。AIMS 193配備了光譜儀、顯微鏡、狹縫等多種設備。利用這些組件,它能夠提供0.1-0.2 um的卓越圖像分辨率,最大視野為512x8192。除了成像硬件外，該機還配備了使用戶能夠管理和分析圖像數據的軟件。該軟件包括一個回溯工具,允許用戶跟蹤更改值並具有高級映像分析功能。它允許實時審查制造和調整過程。此外,該軟件還提供了多種圖像處理選項,包括對比度調整、縱橫比調整、銳度調整、切片和對象提取。該資產還配備了觸摸屏顯示器，用於高效導航和設置。它提供了「縮放」、「平移」、「旋轉」、「反向」、「色相」、「飽和」、「旋轉」、「標簽」和圖像「編輯」等功能。此外，該裝置還能捕捉到金屬化特征和缺陷的高分辨率數字圖像。然後,該軟件可用於分析圖像,以驗證各種測試結果、3D模型生成、公差和翻譯。CARL ZEISS AIMS 193是一種先進的檢測模型，旨在檢測和監測半導體掩模和晶片上的缺陷。該設備提供了超微米分辨率的卓越成像能力以及用於分析和操作的工具。AIMS 193結合了硬件和軟件,是一個有效的缺陷管理、可視化和制造過程系統。
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