二手 CARL ZEISS AIMS 32-193i #9254199 待售
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已售出
ID: 9254199
Photomask repair system
For stepper, 193 nm
LITO Grade optics
VIS Microscope
Illumination unit
Interferometer stage
ArF Industrial grade
Excimer laser
Wavelength 193.4 nm
Sigma aperture slider: ~100 Sigma apertures
SMIF, 8"
Handler system
TUILASER ExciStar S-Industrial Laser
Excimer (Argon fluoride)
Wavelength: 193 nm
Embedded laser class IV
Laser class I
Pulsed
Wafer equivalent NA: >1
Numerical aperture range: 0.9 - 1.4 scanner NA
Sigma range: 0.3 - 0.98
Illumination type: circular and off axis
Linear polarization capability
Vector effect emulation capability
Through pellicle capability
Reticle: 6"/250 mil with/without soft pellicle
Stepper reduction: 1:4
Measurement field: 10 x 10μm
Power supply: 400V
2010 vintage.
CARL ZEISS AIMS 32-193i是一種先進的掩模和晶圓檢測設備，用於半導體生產。該系統旨在幫助制造商識別和解決其光刻工藝中的潛在問題。檢測單元建立在一個33 「x 33」的舞臺上，帶有一個提供清晰和可重復圖像的遠心光學機器。它有一個LED照明光譜照明，有助於減少眩光和改善對比度。該工具具有193 nm光圈和高NA光學元件,以及用於高分辨率圖像的800萬像素攝像頭。它有一個自動化的視覺資產，允許快速循環時間和能夠高速模式缺陷檢查。AIMS 32-193i配備了直觀的用戶界面，可以方便地訪問自動聚焦、模式匹配、線路掃描檢查等模型特征。它設計用於高精度和可重復性,錯誤率小於1%。該設備還配備了先進的圖像處理能力，用於檢測最小的缺陷，並確保無缺陷晶片。該系統配備了廣泛的分析工具，如一套全面的計量功能。計量工具提供有關圖案大小和形狀以及叠加和過程均勻性的信息。單位還可以高精度測量晶圓上物體之間的距離。總體而言，CARL ZEISS AIMS 32-193i是一種可靠而強大的檢測機，旨在幫助半導體制造商改進其光刻工藝，確保無缺陷晶片。它具有高速模式檢查功能,並具有直觀的用戶界面,便於訪問工具功能。它還配備了一套穩健的計量工具，提供對模式、叠加和過程均勻性的詳細分析。這一資產對於幫助半導體公司生產高質量晶片和確保其產品符合嚴格的行業標準至關重要。
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