二手 HERMES MICROVISION / HMI eP3 XP #9389782 待售

HERMES MICROVISION/HMI eP3 XP設備是一種高性能的掩模和晶圓檢測系統，設計用於動態和全面的設備地形後處理分析。該裝置采用實時檢查和監測晶圓制造過程中的缺陷和過程變量，提供全面的光刻工藝控制。HMI eP3 XP提供了一整套先進的光刻工具，如檢查掩模和晶圓地形，以及對準、聚焦和測量。該機具有高放大倍率的光學密封面罩，以及先進的標線和視野的精確覆蓋測量。它還提供高速圖像捕獲,可以精確地捕獲高達每秒90幀的圖像,而不會影響性能。HERMES MICRO VISIONHERMES MICROVISION eP3 XP具有一種新型的檢測工具,利用電荷耦合器件（CCD）成像和激光掃描獲得準確一致的測量結果。資產的高度可靠和高效的設計意味著結果是可重復的,即使在具有挑戰性的環境中也能得到信任。該模型還包括一系列工具,如自動縮放、特征查找器和模式識別,用於快速識別問題並提出解決方案建議。此外,eP3 XP允許在掃描的晶圓圖樣上進行缺陷分析和叠加測量。該設備允許進行自動晶片圖樣檢查,包括表面掃描和體積掃描。模式分析模塊將掃描圖像與CAD數據結合起來,以檢測潛在缺陷,並在問題在電路上可見之前對其進行糾正。最後,該系統提供了一個強大的測量控制臺,可以處理大量數據,並提供增強的降噪算法和圖像分析工具。總之，HERMES MICROVISION/HMI eP3 XP是一個強大的掩模和晶圓檢測單元，提供強大的光刻工藝檢測和控制。該機器提供先進的光學和成像功能,以及自動分析和數據處理功能,以準確可靠地測量晶圓地形,並檢測和糾正潛在缺陷。