二手 HERMES MICROVISION / HMI eP4 #9281324 待售

HERMES MICROVISION/HMI eP4是用於掩模和晶圓檢查的通用工具。它采用基於4K分辨率和高達50倍放大倍率的先進圖像處理技術，快速準確地檢測半導體掩模和晶片設計中的任何異常，如顆粒汙染或線寬和線距變化。這種卓越的圖像質量是由其高性能的光學設備實現的，該設備包括長焦深2x4K CCD相機、雙可變光電（VPE）照明和可選的光場濾光片。此配置消除了散射和反射光,提供了出色的對比度和靈敏度,同時還提供了整個視野的均勻照明。HMI eP4還具有直觀的用戶界面，具有交互式觸摸屏和視覺教學系統，便於操作和快速故障檢測。該單元采用模塊化設計,可增強功能和效率,並能夠輕松添加可選的橫向掃描和粒子/缺陷檢測功能。HERMES MICROVISION eP4能夠以40晶片/小時的最大速率掃描晶片或掩模的整個表面。它支持多達16種不同的掃描強度，可用於各種應用，如粒子、缺陷和晶體學成像。此外，該機器還配備了缺陷納米分析庫，以快速識別異常元件並支持一致的生產質量。EP4是一種精密可靠的面罩和晶圓檢測工具。它提供卓越的圖像質量、直觀的用戶界面和創新的模塊化設計,使其成為滿足高度技術性和苛刻的檢查要求的理想解決方案。