二手 HERMES MICROVISION / HMI eP4 #9389783 待售

HERMES MICROVISION/HMI eP4是一種采用最先進的成像技術設計的用於高精度納米技術應用的掩模和晶圓檢測設備。該系統提供全面的檢測解決方案，能夠檢測微米級的缺陷和異常。設備的綜合特性使半導體晶片和掩模的缺陷分析能夠高效快速，有助於提高產量。該單元在先進的半導體制造和芯片設計中看到了廣泛的應用，包括3-D和翻轉芯片封裝檢測、微流體器件檢測、掩模檢測等等。該機器采用超短的多波長照明和可變光學器件,可實現超高對比度成像,能夠檢測非常小且難以檢測的缺陷。該工具的光學器件配有一個分離的物鏡和投影資產、一個主要聚焦物鏡和一個自動聚焦跟蹤能力，提供廣闊的視野和優越的圖像深度。利用先進的光學設備,該模型可實現高達10倍的高分辨率成像和圖像增強。此外，該工具還具有低音揚聲器/高音揚聲器照明技術，提供動態範圍修改和更好的信噪比。設備的用戶界面設計方便導航操作。它包括一個直觀的觸摸屏顯示屏和可定制菜單,可訪問所有功能和選項。安裝在輸入設備上的操縱桿可以方便地操作光學視圖和控制設置。該系統還能夠在明場和暗場模式下成像樣品，提供極好的靈活性。HMI eP4單元是半導體設計制造的絕佳選擇。其先進的光學設計和用戶友好的界面允許快速、精確、可靠的缺陷分析和掩模檢查。該機適用於廣泛的納米技術應用，提供了最高質量的成像和高精度的測量。