二手 KLA / TENCOR 2131 #293587951 待售

KLA/TENCOR 2131掩模和晶片檢測設備是一種多功能系統，設計用於IC（集成電路）掩模和晶片的檢測。該單元結合了頂尖的光學成像站和先進的缺陷檢測算法，提供了對掩模和晶片的快速、準確和高分辨率的檢測。該機設有最先進的光學成像站，配備了多臺DCI-LX相機和先進的光源。這些攝像機用於捕捉口罩和晶片的高分辨率圖像。光源可以用來收集樣品中的散射光，以檢測晶圓表面存在不透明的缺陷。該工具的高級缺陷檢測算法可用於檢測缺失的多晶矽線、侵蝕的通氣並在IC掩碼和晶片上打開。KLA 2131資產還具有高級數據分析功能。該模型可以自動處理IC掩碼和晶片拍攝的圖像，以識別模式，檢測異常，提取統計信息。這些信息可用於評估IC掩模和晶片的質量並消除潛在缺陷。該設備還可用於測量掩模和晶片上的IC電路的臨界尺寸。該系統還能夠自動進行晶圓缺陷分類。此功能允許設備自動將缺陷分類為隔離、聚類、線性或擴展。此信息可用於確定缺陷的嚴重性並確定糾正措施的優先級。TENCOR 2131機器設計用於生產環境,能夠以高吞吐量運行。它可以連接到工廠的生產控制工具，這使得它能夠實時控制生產線。資產還具有可擴展缺陷存儲庫,可用於比較當前結果與歷史結果。此功能允許更全面地了解IC掩模和晶片上的缺陷。2131 mask&wafer檢測模型是一種先進而有力的IC mask和wafer檢測解決方案。它結合了頂級光學成像站、先進的缺陷檢測算法和自動晶圓缺陷分類，提供了快速準確的結果。該設備還具有可擴展的缺陷存儲庫,並且可以連接到生產控制系統,從而使其能夠以高吞吐量速率運行。