二手 KLA / TENCOR 2131 #293820148 待售

KLA/TENCOR 2131 Mask and Wafer Inspection設備是利用先進的模式識別技術檢測和分析晶片缺陷的晶片缺陷檢測平臺。它是一個用於標線和晶片制造的綜合平臺,可以快速識別缺陷到最小的區域,包括常規和超高分辨率。該系統具有精選的高級功能,以確保準確、快速和高效的缺陷檢測。該單元包括一臺高分辨率光學顯微鏡和一臺數字成像機以實現最大精度，具有大面積覆蓋和高吞吐量的高速掃描能力，以及一臺用於快速數據處理和分析的專用工業計算機。該工具還提供了高級光譜分析來檢測假缺陷和假陰性，並且可以配置為運行各種特定的缺陷分析算法。資產還包括一個全面的缺陷分析界面，以便對結果進行詳細的審查和分析。其中包括可用於識別和分類缺陷的圖表、圖表和圖像。自動化缺陷分析、掃描閾值調整和錯誤缺陷分析也可用於簡化流程。總體而言，KLA 2131 Mask和Wafer Inspection模型的設計提供了精確度、速度和效率的無與倫比的組合。先進的掃描技術和詳細的缺陷分析功能相結合,使其成為集成電路前端和後端制造等廣泛應用的理想選擇。其可靠的性能和容易集成到現有系統中也使其成為晶圓缺陷檢測的一個有吸引力的選擇。