二手 KLA / TENCOR 2131 #293821531 待售

KLA/TENCOR 2131是一種高精度的掩模晶圓檢測設備，設計用於查明最復雜的半導體材料中的微缺陷。該系統結合了下一級光學、照明和圖像捕獲技術,即使是最微觀的異常或表面汙染,也具有無與倫比的重復性、準確性和靈敏度。KLA 2131的設計采用雙光學單元,可對微小的粒線和粒子進行出色的成像。該機的雙通道光工具可產生高達十億個不同的照明角度，並進行測量和調整以獲得最佳效果。使用雙攝像頭資產選項,用戶可以選擇一個向上傾斜的角度以獲得更寬的視野,也可以選擇一個傾斜角度以獲得更高清晰度的圖像。導孔特征允許將晶片精確定位在舞臺上，從而可以從多個角度對晶片進行檢測。TENCOR 2131配備了新的激光模式識別，識別出小至0.1um的缺陷。這項先進的技術旨在對缺陷圖像進行分析,以確定其特征並優化流程。此外，2131具有通過包含多個模具結構的層進行精確分析的能力，使其更能檢測到超微小的缺陷。該模型還配備了一整套圖像校正工具，包括Auto Focus，它使用獨特的算法從復雜的晶圓圖樣中帶出精細結構的細節並對其進行清晰檢查。「檢查軟件」使用戶能夠快速創建復雜的模式並輕松操作設備。KLA/TENCOR 2131旨在實現正確的目標性能,並為半導體行業的質量保證和問題解決提供可靠、高效和經濟高效的解決方案。系統的功能將有助於確保缺陷大小、形狀和位置能夠準確、一致地重復識別,從而為客戶提供無與倫比的缺陷檢測性能。