二手 KLA / TENCOR 2131 #293824933 待售

KLA/TENCOR 2131是一種為半導體制造商設計的面罩和晶圓檢驗設備，以保證高質量的產品。它利用先進的光學顯微鏡技術在晶圓和掩模水平上提供20納米分辨率。該系統由幾個子系統組成，包括一個先進的光學子系統、一個運動控制子系統、一個控制和測量子系統以及一個樣本處理子系統。該單元的核心是先進的光學子系統，它由幾個組件組成，包括精密光學機器、圖像采集工具和圖像分析資產。精密光學模型使用高質量的顯微鏡物鏡透鏡來提供樣品的高分辨率圖像。圖像采集設備能夠對樣本進行單次或多次掃描,並且可以提供框掃描和線路掃描。圖像分析系統用於檢測掩模和晶圓級的缺陷。運動控制子系統負責對光學子系統在樣品上的位置進行精確控制。它由幾臺高精度電動機和控制器組成，這些電動機和控制器允許設備進行微調，以便提供高度精確的結果。控制和測量子系統用於控制整個單元，並從被檢驗樣品中捕獲測量值。它由幾個單元組成，包括中央處理單元、數據存儲機、顯示器和輸入設備。數據存儲工具存儲光學子系統捕獲的圖像,供以後查看和分析。顯示和輸入設備為操作員提供了對資產的反饋和控制能力。樣品處理子系統負責將樣品放入模型中,然後在檢查完成後將其移除。它由幾個組件組成，包括一個拾取和放置子系統、一個示例傳輸子系統和一個示例處理子系統。取放子系統將樣品放到設備的舞臺上。樣品傳輸子系統負責將樣品移動到所需位置進行檢查。最後，樣品處理子系統負責根據所需的過程準備樣品以供檢查。總之，KLA 2131是一種專門為半導體工業設計的掩模和晶圓檢測系統。它使用先進的光學、運動控制和樣品處理系統,以便在掩模和晶圓級別上提供20 nm分辨率。該裝置可靠、高效，為任何半導體制造工藝提供了快速、準確的結果。