二手 KLA / TENCOR 2131 #9158749 待售

KLA/TENCOR 2131 Mask&Wafer Inspection設備經過設計，為半導體制造中的mask和wafer inspections提供高精度、高審查能力和可重復的結果。這一自動檢查系統能夠每小時檢查多達70,000個掩模和晶片，並利用5英寸FOV準直激光光學器件和基於CCD的成像單元，分辨率為每像素1微米。KLA 2131 Mask&Wafer Inspection機器配備了強大的圖像處理算法，能夠快速準確地檢測和識別小至0.2微米的缺陷。此工具還包括一些內置功能以確保質量,例如實時對齊和自動對焦。此外，該資產還配備了高性能基於視覺的缺陷檢測模型，能夠對面膜和晶片進行缺陷、汙染和設備部件的審查。TENCOR 2131 Mask&Wafer Inspection system的設計使得多平臺、質量控制工具和不同類型的設備易於集成。該單元與一系列集成缺陷審查和故障表征工具兼容，如缺陷審查計算機、質量控制工具和電氣測試系統。2131機器還同時支持多個掩碼和晶片，從而可以更快地查看大型晶片和掩模集。此外,該工具還具有數據管理資產,能夠快速準確地審查和解決缺陷數據,從而提高了檢查過程的效率。該模型還提供了幾種監測和報告功能，例如進程監視器，它實時提供了整個掩模和晶圓檢查過程的綜合視圖。設備還包括一個高級控制（HLC）軟件，可以定制以滿足不同的制造要求，並提供最高級別的缺陷審查準確性。總體而言,KLA/TENCOR 2131系統為掩模和晶片提供快速、準確的檢測,並具有可重復的結果,能夠與一系列缺陷審查和故障表征工具集成。該單元還具有強大的圖像處理算法、數據管理機器以及一系列確保高缺陷精度的監控和報告功能。