二手 KLA / TENCOR 2131 #9236722 待售

KLA/TENCOR 2131掩模和晶圓檢驗設備是為生產多種材料和幾何形狀的半導體元件和器件而設計的最高精度和靈敏度。利用先進的光學和數字圖像處理，這種高科技機器能夠在制造階段可靠地檢測最小缺陷和過程異常。該系統能夠根據用戶的要求完成各種晶圓和掩模檢查和測量，包括薄膜光掩模檢查和薄膜厚度、透明度、線性和厚度均勻性的測量。KLA 2131的光學器件設計用於檢查各種具有特殊靈敏度的掩模特征和參數。這些特征和參數包括微觀的亞微觀特征,如光掩線、光柵、正方形和圓形、溝槽、空間和分隔、線寬、圖案、設計和輪廓。該光學器件采用全場光學不相幹和z-lifeline動態，以提高表面掃描的靈敏度。利用z-lifeline動態，該機即使是最小的缺陷也能檢測到高精度和靈敏度。通過使用專門的模式識別軟件，機器能夠識別晶圓或掩模的頂部和底部表面的各種形狀和結構。此軟件還允許比較形狀和圖案以保證質量,從而可以對曲面特征進行深入分析。軟件可以區分成功完成的進程和存在問題或異常的進程。TENCOR 2131為質量控制工程師提供了進一步的分析和註釋功能,並以點擊格式提供數據,以幫助快速發現問題。利用內置的報告生成單元,這臺機器可以精確、準確地報告結果。此外,軟件還可以將結果與客戶定義的光源、掩碼和特定參數進行比較。2131 Mask and Wafer Inspection Machine允許在生產半導體元件和器件時具有卓越的精度和靈敏度。其先進的光學設備、模式識別軟件和報告生成功能使其成為處理最精確組件的理想選擇。這種精密的檢查和測量工具能夠可靠地檢測不規則性，精確地比較形狀和圖案，以保證質量。