二手 KLA / TENCOR 2131 #9404525 待售

KLA/TENCOR 2131掩模和晶圓檢測設備提供高性能、最先進的半導體晶圓檢測，用於掃描電子和光學顯微鏡，用於廣泛的半導體制造應用。該系統旨在對光掩模和晶片上的缺陷進行精確檢測和分類，可以對單個晶片上的多個缺陷進行準確分類。該設備專為生產環境而設計,可擴展以滿足大容量晶圓檢查任務的需要。KLA 2131機器具有先進的自動缺陷檢測算法,可以檢測斷橋對、針孔和空隙等小缺陷,同時對點缺陷、微粒和條紋特征等其他缺陷類別進行分類。此工具的自動檢測和分類工作流可以檢測晶片上的各種缺陷,而無需引入額外的復雜性或人工操作,從而實現高吞吐量和可靠的性能。資產可以生成三維地形圖像和定量光譜測量形式的詳細數據，為用戶提供有關制造過程的準確和可行的信息。該模型還提供了用於管理客戶檢測算法、將晶片分組以進行分析以及設置復雜故障模式分析的軟件。該軟件使用戶能夠定制其檢查設備以滿足其特定的應用需求並優化其流程。KLA專有的晶片處理技術可實現晶片的無縫、無空氣處理,並可集成到現有的過程管理流程中。該系統先進的視覺單元結合自動運動控制，準確定位晶片上的缺陷，可以在不同基板高度之間快速移動，減少潛在的基板處理誤差。TENCOR 2131還具有邊緣照明和數字偏振技術，以抵消晶圓的無缺陷區域，使自動化機器能夠更快地專註於關註的領域。此工具具有高度可配置性,可以進行定制以滿足各種檢查應用程序和流程的需求。總之，2131是檢測和分類光掩模和晶片潛在缺陷的先進可靠資產。此模型為用戶提供高吞吐量、詳細數據以及集成的軟硬件功能,從而實現優化和準確的缺陷檢測和分類過程。