二手 KLA / TENCOR 2131E #9181395 待售

KLA/TENCOR 2131E Mask&Wafer Inspection Equipment是一種用於後端半導體集成電路制造的可靠、堅固的晶圓處理和光學檢測系統。它以在進行徹底、全面的晶片和掩模檢查時的性能和準確性而聞名。KLA 2131E具有自動晶片處理單元,可快速準確地移動和處理晶片。它采用先進的算法來分析光模式，然後對每個晶圓及其關聯的掩模對準標記（MAM）進行高速測量，從而實現了這一點。機器還可以精確測量晶片和掩碼上的誤差,包括臨界尺寸（CD）叠加、清晰字段和IPC-9151。TENCOR 2131 E擁有包括三臺CCD相機的先進光學工具，用於獲取晶圓和掩模的圖像。這些相機動態範圍大，對納米級細節敏感。為了進一步提高設備的精度，KLA/TENCOR 2131 E還采用光學瞄準系統和激光模塊來進行精確的晶圓配準。KLA 2131 E還包括一個用於實時檢測缺陷的高功率圖像分析資產。該模型能夠檢測到小於µm尺寸的缺陷,還可以檢測到臨界尺寸的任何細微變化。為了確保分析的準確性，該設備有一個綜合探測系統和投影儀，用於精確的叠加測量。2131E具有用戶友好的設計,其所有組件和過程都是自動化的,以實現最大程度的便利和效率。此外,該設備還能夠讀取各種類型的晶片,包括平板和領結形狀,並配有可靠、全面的保修計劃。總之，TENCOR 2131E是一個可靠、準確的掩模晶圓檢測儀，設計用於後端半導體集成電路的制造。它的自動化晶圓處理機和先進的光學和圖像分析系統，在每次檢查過程中都能提供精確、準確和方便。