二手 KLA / TENCOR 2132 #293820147 待售

KLA/TENCOR 2132掩模和晶片檢測設備是一種最先進的系統,旨在為掩模和晶片提供快速、可靠和經濟高效的光學檢測。KLA 2132 Mask和Wafer Inspection Unit結合先進的KLA表面檢測系統和業界領先的自動缺陷分類和表征能力,是半導體制造設施尋求更高精度和生產效率的重要工具。TENCOR 2132 Mask and Wafer Inspection Machine為表面地形、光學故障分析和缺陷檢測提供全面的三維成像顯微鏡。利用基於象限的圖像采集和分析（QBIA）,該工具可以快速準確地檢查大面積區域是否存在掩模或實際制造晶片上的缺陷、汙染物和缺陷。該資產提供清晰的圖像,即使對象小到4 µm,也非常適合檢測可能導致模型故障的粒子、粒子和其他缺陷。除了提供先進的光學檢查能力外，設備還提供先進的缺陷分類和表征。2132的嵌入式軟件經過設計，可以根據形狀和大小等因素快速準確地對缺陷進行分類。這使系統能夠查明和隔離單個缺陷,加快表征過程,並允許快速診斷和糾正操作。KLA/TENCOR 2132 Mask and Wafer Inspection Unit還具有內置的自動校準功能,可讓機器快速安裝並隨時使用。這有助於在設置用於不同任務的工具時節省時間、精力和挫折。KLA 2132 Mask and Wafer Inspection Asset的設計符合光學檢查系統的SEMI標準,並以TENCOR業界領先的保修為後盾。這種最先進的檢驗模型是確保任何半導體制造設施的最佳生產效率和準確性的完美工具。