二手 KLA / TENCOR 2132 #9161994 待售

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KLA / TENCOR 2132
已售出
ID: 9161994
優質的: 1992
Wafer inspection system 1992 vintage.
KLA/TENCOR 2132是為高靈敏度和準確度而設計的先進的掩模和晶圓檢測設備。該系統采用獲得專利的傅立葉變換幹涉測量(FTI)技術進行缺陷檢測和分類,包括集成缺陷審查、故障隔離和模式識別單元。該單元具有用戶友好的圖形用戶界面以及高級成像和分析功能。掩模和晶片檢測機包括三個主要組成部分:掃描儀、成像工具和圖像處理系統。掃描儀是一種基於FTI的高分辨率成像資產,能夠捕獲晶圓的自上而下和橫截面圖像。這樣可以確保準確檢測、識別和解決缺陷。該成像模型包括一種先進的光學顯微鏡技術,能夠顯示晶圓表面的精細細節。該設備還包括一個模擬模塊,允許用戶精確地繪制出一個平面表面並預測缺陷的影響。圖像處理系統根據類別和大小對缺陷進行檢測和分類。它還將它們分成各種缺陷類。它對缺陷的形狀、大小和強度進行分類,還可以識別和區分常見的特征如點、線、曲線、空心和島。該系統可以很容易地檢測晶圓內的異常,並有助於確定哪些需要進一步檢查或修復。缺陷面板分辨率為0.5µm,能夠在像素級別進行檢測。該單元還能夠根據大小、形狀、拓撲、方向和相對運動對缺陷進行分類。門映射功能允許用戶在其樣本位置查看閾值、過濾和識別關鍵缺陷。機器還包括自動缺陷審查功能。這允許自動比較預期結果和實際結果,因此可以快速識別出任何差異。還包括一個微觀級別的故障隔離工具,這有助於減少潛在的遺漏缺陷或誤報。最後,該單元提供了強大的模式識別資產。這為用戶提供了晶圓的全面視圖,以及一次檢測和分類多個缺陷模式的能力。例如,它可以區分不同類型的圖樣化缺陷,例如短褲和打開。KLA 2132掩模和晶片檢測模型旨在為用戶提供一個用於檢測、分析和修復掩模和晶片缺陷的強大設備。其先進的成像和圖像處理能力,使得缺陷檢測和分類的高度敏感和準確的方法。自動缺陷審查和模式識別系統有助於減少潛在的缺失和誤報,使此系統非常適合確保產品的最高質量。
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