二手 KLA / TENCOR 2133 #9150400 待售
網址複製成功!
單擊可縮放
ID: 9150400
優質的: 1997
Wafer inspection system
Equipment specifications:
Voltage: 120 Volts
Frequency: 50/60 HERTZ
(3) Phase
Current: 25 AMPS
(2) Wafer cassette loading platforms
Independent load / Unload control per station
Robotic wafer handler
1997 vintage.
KLA/TENCOR 2133掩模和晶片檢驗設備是一種綜合性、高精度、自動化的檢測系統,旨在檢測和識別光掩模和半導體晶片中的缺陷。該裝置使用先進的自動顯微鏡進行操作,以掃描該區域的微觀顆粒、汙染物、不規則性或缺陷。然後將顯微鏡產生的圖像與既定標準進行比較,確定圖樣是否可以接受或需要固定。KLA 2133 Mask&Wafer Inspection Machine具有先進的光路,可確保最高級別的缺陷檢測和準確性。該工具包括用於自動和手動圖像優化的高級自動對焦機構、用於改進圖樣對比度和清晰度的高級照明技術,以及提供異常精確缺陷識別的一套獨特缺陷檢測算法。資產中還包括一套多用途的檢查、驗證和分析功能,這些功能允許快速輕松地監控缺陷並進行性能分析。TENCOR 2133掩碼和晶圓檢測模型經過優化,可用於邏輯和內存產品中的復雜缺陷結構。設備能精確檢測0.5至5微米大小的臨界缺陷,還能檢測到亞微米結構。此外,系統還提供了一個集成的缺陷分析包,以便進行詳細的調查和缺陷診斷。該設備還提供了缺陷結果的完全可追蹤性,從而改進了缺陷可見性和過程控制。2133 Mask&Wafer Inspection Machine還提供自動化圖像生成、缺陷數據記錄、用戶友好軟件、直觀報告和用戶可編程功能等多種功能。此外,該工具還提供了集成的校準資產和增強的3-D功能,以增強缺陷監控。總體而言,KLA/TENCOR 2133掩模和晶片檢驗模型是一種堅固、高精度、自動化的檢測設備,設計用於檢測和識別光掩模和半導體晶片中的缺陷。該系統具有先進的光學、缺陷檢測算法和復雜的分析功能等功能,為確保電子產品的質量和可靠性提供了理想的解決方案。
還沒有評論