二手 KLA / TENCOR 2133 #9395745 待售

KLA/TENCOR 2133掩模和晶片檢測解決方案是一種先進的工具，能夠產生用於檢測半導體晶片復雜模式的高分辨率圖像和測量數據。該設備提高了對極小缺陷的靈敏度，並為清晰清晰的圖像提供多波長成像。而且，最先進的視覺算法提供了快速的檢測時間和卓越的標記精度。KLA 2133掩模和晶片檢測系統具有多種特點。首先,該單元設計用於處理不同的基板厚度,包括5 μ m以下的基板厚度,以及一定範圍的線距。它還在晶圓尺度上提供100 mg/cm2分辨率的樣品照明的最高均勻性,在單個模具上提供10 μ m的均勻性。使用具有對稱像差校正功能的超快鏡頭，機器能夠進行快速、準確、可重復的檢查。此外，隨著包括多波長和偏振照明在內的一系列光學選項，加上嵌入式散射測量工具，客戶在設計產品時有更多的選擇自由。TENCOR 2133掩碼和晶圓檢測資產帶有用戶友好的軟件界面，可加快設置時間，簡化復雜模式的構建。使用Defect Liberation TM技術,用戶可以自動區分多達160種模式,從而提高產量。使用Data Explorer TM檢查評估格式進一步增強了模型,使用戶可以快速探索其檢查結果。此外,軟件還包括報告功能,使工程師能夠深入了解模式上缺陷的來源、類型和位置,從而提供更好的控制和RIB分析。2133面罩和晶圓檢測設備非常適合IC、MEMS和LED制造商。該系統與模塊化評估平臺（MEP）完全兼容，使客戶能夠輕松集成多個測量系統，提供全面的表征解決方案。創新的標記和合並技術提高了吞吐量，而新的色層自動化和標記檢測單元提高了整體精度。通過將快速自動化匹配和精確匹配技術相結合，客戶可以減少檢查時間和虛假故障率。總之，KLA/TENCOR 2133掩模和晶片檢測解決方案是一種先進的機器，旨在產生高度可靠和準確的檢測結果。該工具提供方便用戶的界面,使工程師能夠有效地管理其操作。該資產具有多種功能和光學選項,非常適合希望升級其掩碼和晶片檢查功能的IC、MEMS和LED制造商。