二手 KLA / TENCOR 2138 #191420 待售

KLA/TENCOR 2138掩模和晶圓檢測設備是一種自動化的高速精密工具,用於檢查高端半導體結構和電子設備是否存在可能導致產品故障的缺陷和損壞。檢查系統利用幾種強大的先進成像技術，如紫外線（UV）、紫外線-可見（UV-Vis）、近紅外（NIR）和紅外（IR）成像技術，檢測各種缺陷和損壞，包括顆粒和汙染物、拋光缺陷、斷裂、孔隙、擦傷、擦傷、擦傷、該設備設計用於檢查掩模和晶片基板,並為客戶提供各種選項,以解決特定的應用和技術問題。它具有可供用戶應用定制的光源、用於控制成像波長的板載濾波器輪以及用於獲取和分析圖像的攝像頭模塊和光學組件。KLA 2138旨在提供符合或超過行業要求的檢查速度,非常適合中等容量的檢查需求。其增強的成像技術使得能夠檢測缺少的元素、不均勻的表面和無法單獨用肉眼檢查識別的無法解釋的區域變化等缺陷。該機還為用戶提供了一系列微米級精度、低背景噪聲和快速的檢測速度，非常適合在微電子、光伏、光學等領域使用。其符合人體工程學的設計使其操作簡單，其集成軟件使用戶能夠控制工具的操作、存儲和分析數據以及創建自定義檢查模板。TENCOR 2138還具有可選的圖像切片成像接口,可用於詳細檢查光掩模或晶片。它可用於檢測和測量缺陷，獲取動態或靜態圖像，分析基板的平整度，以及為生產過程的表征、過程控制和故障排除提供定量數據。該資產的接口功能包括數碼相機控制、數字信號輸出以及用於與外部設備耦合的USB端口。它可以安裝在直立或倒置的配置中，使其成為各種檢查應用程序的非常通用的工具。2138 Mask and Wafer Inspection Model是一款功能強大、可靠、靈活的工具,專為滿足半導體制造和檢驗行業客戶所需的特定需求和應用而量身定制。憑借其先進的成像技術、人體工程學設計和可定制的功能，它是掩模和晶圓檢查和分析的理想解決方案。