二手 KLA / TENCOR 2138 #9115814 待售

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ID: 9115814
晶圓大小: 8"
Wafer inspection system, 8" Wafer Chuck: 200mm Low Contact Type Wafer Handling Autoloader Single Pentium Processor KLA-Tencor Software Version 5.1.060 Array Mode Pixel: 0.25, 0.39, 0.62, 1.25 Random Mode Pixel: 0.25, 0.39, 0.62, (1.25 um TBD) 400 MPS Image Computer Random & Array Mode Inspection 2 Standard Cassette Plates ADC Option SAT Option (Segmented Auto Threshold) Full Compatibility with KLA-Tencor Klarity Software via Directlink SECS Compliant XE (Xenon) Ultra Broadband Light Source Blower Box included CE Compliant Line Conditioner Operations Manual & Documentation CE Compliant Line Conditioner 208V, 3PH, 50/60Hz.
KLA/TENCOR 2138 Mask&Wafer Inspection Equipment是一種全面、全自動的解決方案,在生產過程中提供晶圓和其他半導體器件上工藝模式的高速檢測。該系統旨在幫助半導體制造商通過優化其整體過程控制來減少缺陷並提高生產率。此單元可幫助檢測掩模和晶片表面的缺陷,檢測精度無與倫比。它利用先進的圖像處理來識別細微的特征,而不受噪聲和非均勻照明的影響。此外,它還可以檢測邊緣光刻誤差,如缺少接觸孔,從而提高工藝產量。利用快速的采集速度,它可以使用高通量攝像機一次捕獲幾個樣本的圖像,從而實現更快的晶圓處理。這臺機器還包括一個符合人體工程學的高效操作員界面,簡化了工作流管理。KLA 2138工具提供了多種改進晶圓和掩碼管理的功能。它是一個多站點工作站,用戶可以在其中登錄遠程位置、選擇部件和分析圖像。它包括用於測量晶圓尺寸的行業標準晶體管級計量特征、工藝關鍵特征之間的距離以及其他相關參數。它還可以測量未陣列化的表面粗糙度。資產的自動缺陷檢查模式設計用於實時檢查晶片,放大倍數可達3倍。它可以利用先進的算法識別晶片邊緣的芯片和缺陷。為幫助確保高精度,該模型提供了不同的視覺系統,可提供優化的模式檢查和同時測量缺陷位置。TENCOR 2138 Mask&Wafer Inspection Equipment還提供文檔和記錄功能。每個測量會話都存儲在其數據庫中,並且每個步驟都與所有參數一起記錄。生成的報告包含所檢查的每個晶片或掩模的詳細信息。這有助於提供不同模式級別缺陷分布的可靠統計信息。總而言之,2138 Mask&Wafer Inspection System具有自動缺陷識別和報告功能,是幫助半導體制造商縮短工藝時間和提高缺陷產量的完美解決方案。憑借其多種特性和功能,它可以有效地確保滿足各種生產和工藝要求的最高質量。
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