二手 KLA / TENCOR 2139 #9351630 待售

KLA/TENCOR 2139面膜和晶片檢測設備是一種獨特的面膜和晶片產量及工藝控制解決方案。KLA 2139系統提供高度精確的自動模式識別,從而實現快速和可重復的分析。該單元包括一個光刻成像和分析機，一個掩模對準晶圓掃描儀光束和一個綜合檢測工具。光刻成像資產有幾種先進的光學和照明系統，即使在極小的區域也能檢測到小的缺陷。掩模對齊器能夠檢測細微結構和亞微米模式變化，如線緣粗糙度（LER）。晶片掃描儀波束創建了一個高分辨率的掩模或晶片結構圖像，然後進行分析以檢測缺陷。該模型的算法可以檢測到0.2微米到10微米的缺陷，並提供無與倫比的檢測精度和可重復性。該設備的圖像處理技術實現了精確的缺陷檢測，允許精確的掩模和晶圓檢查。該系統還提供了多功能性,用於檢測從單個和多個模式到幾何模式以及過程生成的缺陷的各種變化。此外，該裝置能夠通過多種方式對缺陷進行表征和分析，包括在暴露前和暴露後的情況下檢查空白。它還允許靈活地進行圖像分析,並包括一套旨在滿足獨特用戶需求的分析工具。最後,機器易於使用的GUI允許輕松配置、數據處理和高級分析。作為其全面報告和日誌記錄功能的一部分,它提供了許多指標,包括缺陷大小、位置、類型、數量和原因。此外，它還可以提供3D-surface所檢查的掩模或晶片的顯示，並生成基於扇區的報告。總體而言,TENCOR 2139提供了無與倫比的掩模和晶圓檢測工具,具有高效且可重復的缺陷檢測功能。它還提供集成的缺陷分析和報告解決方案,以滿足任何用戶的需求。它是一個獨特的解決方案,用於確保產量和過程控制,從而使用戶能夠保證各種設備的性能。